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《中国光学》
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光学加工及设备
光学加工及设备
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摘要
O72395021325磨抛工艺中HgCdTe晶片的表面损伤=SurfacedamageofHgCdTewafersinlappingandpolishing[刊,中]/姚英,蔡毅,欧明娣,梁宏林,朱惜辰(昆明物理所.云南,昆明(650223))//红外技术.—1994,16(5).—15—20用X射线反射形貌术研究了磨抛工艺在用Te溶剂法和布里奇曼法生长的碲镉汞晶片表面引入的
DOI
wjvkxeo6d7/724402
作者
机构地区
不详
出处
《中国光学》
1995年2期
关键词
光学加工
磨抛工艺
布里奇曼法
红外技术
表面损伤
射线反射
分类
[理学][物理]
出版日期
1995年02月12日（中国Betway体育网页登陆平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
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来源期刊
中国光学
1995年2期
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