光学工艺 微细加工技术与设备

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    摘要 TN305.72005032365硅基微结构制作及其在微分析芯片上的应用=Fabricationofsilicon-basedmicrostructuresandtheirapplicationinmi-crochipsE刊,中]/孙洋(清华大学深圳研究生院.广东,深圳(518057)),钱可元…∥半导体光电.-2004,25(6).-477-479,483基于一种新的湿法刻蚀条件和新型的凸角补偿结构,以KOH溶液为腐蚀液,对单晶(100)Si材料进行了湿法刻
    作者
    机构地区 不详
    出处 《中国光学》 2005年3期
    出版日期 2005年03月13日(中国Betway体育网页登陆平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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