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碳化硅外延设备检漏技术探析
碳化硅外延设备检漏技术探析
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摘要
摘要:碳化硅外延技术作为一种关键的半导体材料制备技术,被广泛应用于电子、光电和能源等领域。然而,在该技术的生产过程中,设备漏气问题成为限制设备稳定性和生产效率的重要因素。设备漏气不仅会导致反应气体的变化,还会引入不良杂质,影响产品的质量和性能。本文以氦质谱仪检测操作为例,详细分析碳化硅外延设备检漏技术。
DOI
g4q3gk9rj8/7848496
作者
郑英杰
机构地区
身份证:150429198807123612
出处
《科技新时代》
2023年15期
关键词
真空检测技术
碳化硅外延设备
控制系统
分类
[必威国际登录平台是什么][建筑技术科学]
出版日期
2023年11月30日(中国Betway体育网页登陆平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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来源期刊
科技新时代
2023年15期
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