碳化硅外延设备检漏技术探析

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    摘要 摘要:碳化硅外延技术作为一种关键的半导体材料制备技术,被广泛应用于电子、光电和能源等领域。然而,在该技术的生产过程中,设备漏气问题成为限制设备稳定性和生产效率的重要因素。设备漏气不仅会导致反应气体的变化,还会引入不良杂质,影响产品的质量和性能。本文以氦质谱仪检测操作为例,详细分析碳化硅外延设备检漏技术。
    作者 郑英杰
    出处 《科技新时代》 2023年15期
    出版日期 2023年11月30日(中国Betway体育网页登陆平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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