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《中国物理快报:英文版》
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2006年1期
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Effects of Flow Rate Variation on SiCln (n 〈 3) Densities in SICl4 Plasmas
Effects of Flow Rate Variation on SiCln (n 〈 3) Densities in SICl4 Plasmas
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摘要
未填写
DOI
54yy9g8m40/398528
作者
王照奎;林揆训;林璇英;娄艳辉;祝祖送
机构地区
不详
出处
《中国物理快报:英文版》
2006年1期
关键词
流动速率变化
等离子体
密度
光谱测定法
参数
沉积薄膜
分类
[理学][物理]
出版日期
2006年01月11日(中国Betway体育网页登陆平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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来源期刊
中国物理快报:英文版
2006年1期
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