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新型半导体材料仅一个分子厚

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摘要俄国立研究型技术大学（NUSTMISIS）莫斯科钢铁冶金学院与北京交通大学、澳大利亚昆士兰科技大学和日本国立材料科学研究所的科学家一起，制成厚度为一个分子的氮化硼新型半导体材料。

DOI 2d3w3pylj9/1777543

作者

机构地区不详

出处《新材料产业》 2017年10期

关键词半导体材料日本国立材料科学研究所分子北京交通大学钢铁冶金澳大利亚

分类 [一般工业技术][材料科学与工程]

出版日期 2017年10月20日（中国Betway体育网页登陆平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

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来源期刊

新材料产业

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