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《有色冶金节能》
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1996年1期
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北京有色研究总院拉制出直径200mm的硅单晶
北京有色研究总院拉制出直径200mm的硅单晶
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摘要
北京有色研究总院国家半导体材料工程研制中心继1992年拉制出第一根直径为150mm硅单晶后,日前又拉制出直径为200mm的硅单晶,这标志我国硅单晶制造技术取得新的进步。半导体材料硅是电子信息技术的基础,被国家列为高新技术发展的重点。这根直径为200mm的硅单晶为N型,重达56kg。加大硅单晶直径,历来被认为是提高硅片产量、降低成本的有效措施,技术难度也相应
DOI
3ojz1y7r45/160246
作者
机构地区
不详
出处
《有色冶金节能》
1996年1期
关键词
硅单晶
超大规模集成电路
体材料
电子信息技术
技术发展
制造技术
分类
[冶金工程][有色金属冶金]
出版日期
1996年01月11日(中国Betway体育网页登陆平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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来源期刊
有色冶金节能
1996年1期
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