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《半导体信息》
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2003年5期
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新技术、新器件
新技术、新器件
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摘要
<正>00593Fabricationof0.1μm-GateInPHEMTsUsingi-LineLithography/K.Sawada,K.Makiyama,T.Takahashietal(FujitsuLaboratoriesLtd,Japan)//2003IndiumPhos-
DOI
0dp6wq8oj2/1563745
作者
机构地区
不详
出处
《半导体信息》
2003年5期
关键词
FUJITSU
器件模拟
射频功率放大器
抗蚀剂
电子束光刻
电荷泵锁相环
分类
[电子电信][物理电子学]
出版日期
2003年05月15日(中国Betway体育网页登陆平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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来源期刊
半导体信息
2003年5期
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